專利布局的技術(shù)方案的形成,形容為紙面上的研發(fā)。專利布局的很多技術(shù)方案都是現(xiàn)在并不存在,不是為了解決實(shí)際問題而形成的技術(shù)方案,而是為了將來(lái)有一天能給同行添堵。給同行添堵,就是給自己賺錢,所以提前就某些可能發(fā)生的問題去研發(fā)一下可能有用的技術(shù)方案,以備將來(lái)有一天自己可能會(huì)用到,或者競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手可能會(huì)用到。這樣的虛擬的紙面的研發(fā),如果不經(jīng)過專利分析的過程,大概是很難做到,甚至是做不到。所以,專利布局的第二定理是前提定理,專利分析大概是專利布局的必須前提。